大阪大学大学院工学研究科の小林拓真准教授、藤本博貴さん（博士後期課程）、神畠真治さん（当時 博士前期課程）、八軒慶慈さん（博士前期課程）、原征大助教、渡部平司教授の研究グループは、希釈水素熱処理(図1)によるSiC MOSデバイスの性能及び信頼性向上を達成しました。電気自動車や鉄道、産業機器などに広く応用されるSiC MOSデバイスは、窒素等の異種不純物導入による特性改善が一般的ですが、酸化膜中への不純物導入によるデバイスの信頼性劣化が課題となっていました。今回、研究グループは、余分な不純物を一切排除し、成熟したシリコンテクノロジーで広く用いられる希釈水素熱処理を高温で2度施す...

大阪大学大学院工学研究科（以下、大阪大学）の舟木　剛　教授とネクスファイ・テクノロジー株式会社（本社：大阪府吹田市、代表取締役社長：中村 孝、以下、ネクスファイ）は、新たに高周波パルス発生器を開発し、深刻な環境問題を引き起こしているPFAS（ペルフルオロアルキル化合物およびポリフルオロアルキル化合物の総称）に対して、新たな機器を用いた液中プラズマを活用することで、効率的に完全分解することに成功しました。両者は、2017年に「SiC応用技術共同研究講座」を設置し、SiCパワーデバイスを用いた革新的高電圧機器の社会実装に向けて研究開発を進めてきました。今回の成果は、社会課題の解決につながる...