室温動作集積単電子トランジスタと大規模CMOS回路との融合による新機能創出
【研究分野】電子デバイス・電子機器
【研究キーワード】
単電子トランジスタ / Beyond CMOS / CMOS / 集積回路 / MOSFET / クーロンブロッケード振動 / ナノワイヤ / 半導体物性 / 大規模集積回路 / ナノワイヤトランジスタ / 特性ばらつき / 電子デバイス・機器
【研究成果の概要】
大規模集積回路の微細化限界を打破し新機能を創出することを目的に,室温動作シリコン単電子トランジスタとCMOS回路を1チップ上に集積し両者の融合による新機能創出に挑戦した.作製プロセスの改良により,室温動作単電子トランジスタとCMOS回路の集積化プロセスを確立し,単電子トランジスタのクーロンブロッケード振動をCMOS回路で制御することに成功し,新たな機能を創出した.
【研究代表者】
【研究連携者】 |
更屋 拓哉 | 東京大学 | 生産技術研究所 | 助手 | (Kakenデータベース) |
|
【研究種目】基盤研究(A)
【研究期間】2011-04-01 - 2016-03-31
【配分額】48,880千円 (直接経費: 37,600千円、間接経費: 11,280千円)