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研究キーワード:岡山大学における「半導体デバイス」 に関係する研究一覧:3件
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発表日:2025年7月16日
1
次世代AIで磁性材料のエネルギー損失の原因を解明
~省エネルギーな次世代EV開発への応用に期待~
次世代の説明可能AI「拡張型自由エネルギーモデル」で、磁性材料のエネルギー損失の原因を明らかにしました。実用材料である無方向性電磁鋼板を対象に、損失の原因を顕微鏡画像上で直接「見える化」することに成功しました。トポロジーと熱力学の融合で、環境エネルギー材料を解析する汎用的なAI技術を創出しました。 東京理科大学 先進工学部 マテリアル創成工学科の谷脇三千輝 氏(2024年度修士課程修了)、小嗣真人教授らの研究グループは、次世代の説明可能AI「拡張型自由エネルギーモデル」を用いて、実際の磁性材料のエネルギー損失の原因を明らかにしました。...
キーワード:最適化/自由エネルギー/人工知能(AI)/トポロジー/エネルギー利用/半導体デバイス/省エネ/ボトルネック/熱力学/材料設計/磁性材料/電池/エネルギーモデル/スピン/スピントロニクス/パワーエレクトロニクス/モーター/自動車/省エネルギー/電気自動車/二酸化炭素/半導体/心臓/異分野融合
他の関係分野:情報学数物系科学工学
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発表日:2025年6月23日
2
最先端半導体技術開発に新たな分析手法を提供
三次元LSIなどの最先端半導体開発に貢献する、新しい分析手法を開発。半導体PN接合の光励起による電子の動きとテラヘルツ波放射の関係を説明する単純化モデルを提案。シリコン(Si)ウェハ内部に浅く形成されたPN接合の深さを、簡単に非破壊・非接触で、ナノメートル精度で、推定できることを実証。 岡山大学、ライス大学、サムスン電子、日本サムスンによる国際研究グループは、シリコンウェハに埋め込まれたPN接合にフェムト秒レーザーを照射して生成されるテラヘルツ波を観察することで、非破壊かつ非接触で、簡単にウェハ内のPN接合の深さを推定する分析技術を、6月20日午後3時(日本時間...
キーワード:分析技術/テラヘルツ/テラヘルツ波/光励起/半導体デバイス/省エネ/半導体産業/LSI/シリコン/ナノメートル/フェムト秒/フェムト秒レーザー/レーザー/省エネルギー/半導体/非接触/分解能/SPECT
他の関係分野:環境学数物系科学工学
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発表日:2025年4月8日
3
薄膜生成時の枝分かれ現象を、トポロジー・物理・AIの融合で解明
〜Beyond 5Gを支える基盤技術への応用に期待〜
キーワード:電気通信/AI/機械学習/最適化/自由エネルギー/情報学/人工知能(AI)/産学連携/トポロジー/六方晶窒化ホウ素/テラヘルツ/電荷移動度/マテリアルズ・インフォマティクス/h-BN/トランジスタ/電子デバイス/半導体デバイス/グラフェン/センサー/移動度/化学工学/周波数/多層膜/電荷移動/半導体/膜構造/インフォマティクス/ホウ素/異分野融合
他の関係分野:情報学複合領域数物系科学化学工学総合生物農学
岡山大学 研究シーズ