・厚さ10 nm未満のMg膜を用いた低ダメージ熱処理（ソフトアニール注1））により、薄いp型GaN注2）の表面を平坦なまま保ちながら、表面近傍に高濃度Mgアクセプター層を形成した。・プラズマ加工の有無にかかわらず、（1～3）×10⁻⁴ Ω·cm²の低い比接触抵抗注3）を実現し、薄膜p型GaNに対する高い汎用性を示した。・従来の厚膜Mgアニールで報告されている反応生成相は確認されず、材料品質の維持を確認した。・膜厚50 nmの薄膜p型GaNでも高い...

・パルス電流を用いた高速・低エネルギー材料処理法を開発・結晶組織を非平衡的に制御※１し，チタン合金の靭性※2を大幅に向上・電流の非熱的効果※3を活用した新しい材料設計戦略に期待 熊本大学 先進マグネシウム国際研究センターの顧 少杰（グ シャオジェ）助教、同大学 大学院先端科学研究部の徳 悠葵教授および森田 康之教授、九州大学 大学院工学研究院の木村 康裕准教授、名古屋大学 大学院工学研究科の崔 羿（スイ イ）准教授、浙江大学の巨 陽（ジュ ヤン）主幹教授（熊本大学客員教授）ら...