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研究キーワード:名古屋大学における「磁気抵抗」 に関係する研究一覧:2件
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発表日:2025年10月30日
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電流なしで磁石に吸着!らせん状キラル分子の新原理を発見
――不斉合成や分子生物学への応用に期待――
・次世代量子エレクトロニクスの重要材料「キラル分子」の新たな原理を発見。・これまで電流を流さなければ磁石の性質を持たないと考えられてきたキラル分子が、熱による分子の振動によって自ら磁石の性質を持つ仕組みを発見。・物理学で培われたスピン科学の概念が化学・生物学へと拡張し、学際的応用が期待される。 東京大学物性研究所の三輪真嗣准教授、産業技術総合研究所ハイブリッド機能集積研究部門の山本竜也主任研究員、名古屋大学大学院工学研究科の大戸達彦准教授らによる研究グループは、大阪公立大学の木村健太准教授、分子科学研究所の山本浩史教授と共同で、未解明であった...
キーワード:原子核/磁気抵抗/キラル/不斉合成/光合成/磁気モーメント/磁気抵抗効果/MRAM/メモリ/巨大磁気抵抗効果/交換相互作用/分子振動/量子エレクトロニクス/巨大磁気抵抗/スピン/スピントロニクス/センサー/バイオセンサー/量子力学/生体内/創薬/分子生物学
他の関係分野:数物系科学化学生物学総合理工工学総合生物
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発表日:2025年3月24日
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層厚を制御した人工強磁性細線の作製に成功 ―人工強磁性細線を利用した大容量メモリや磁気センサ開発へ道筋―
―人工強磁性細線を利用した大容量メモリや磁気センサ開発へ道筋―
*層厚を制御した多層構造をもつ人工強磁性細線を二浴電析法により作製に成功した。*層厚は最小で約3.5 nmの人工強磁性細線を作製できた。*人工強磁性細線を利用した大容量メモリや磁気センサ開発へ道筋を開いた。 ◆詳細(プレスリリース本文)はこちら ...
キーワード:産学連携/磁気抵抗/強磁性金属/原子層/電気めっき/テンプレート/めっき/メモリ/強磁性/人工格子/スピン/スピントロニクス/多層膜/電解質/層構造
他の関係分野:複合領域数物系科学総合理工工学
名古屋大学 研究シーズ