横浜国立大学大学院 工学研究院の室町実大准教授とパナソニック株式会社の町田博宣博士、大阪大学大学院基礎工学研究科の菅原　武助教、公益財団法人高輝度光科学研究センター（JASRI）の安田伸広研究員（研究当時）および増永啓康主幹研究員（技術担当）、産業技術総合研究所の研究グループは、空調などに用いられる蓄熱材料「TBABハイドレート（TBAB・26H₂O）」の結晶構造を大型放射光施設SPring-8における高精度なX線回折実験により明らかにしました。この構造は1940年に初めて報告されて以来80年以上にわたり未解明であり、材料・プロセス開発や熱設計の妨げとなっていました。今回の成果により、水を基...

横浜国立大学 大学院工学研究院の本倉健教授らの研究グループは、電源開発株式会社、産業技術総合研究所と共同で、火力発電所由来の排ガスに含まれるCO₂と、廃棄太陽光パネルから回収されたシリコンを直接反応させて、ギ酸を合成できることを見いだしました。実際の排ガスとシリコン廃材を直接反応させることができ、排ガス中CO₂の有効利用と廃棄太陽光パネルのリサイクルを同時に実現する技術の確立に近づきました。本研究成果は、アメリカ化学会の国際学術雑誌「ACS Sustainable Resource Management」（オープンアクセス、7月13日：日本時間7月13日24時00分）に掲載されま...

横浜国立大学 総合学術高等研究院 半導体・量子集積エレクトロニクス研究センター ヘテロ集積研究拠点長 井上 史大准教授とそのチームは、株式会社KOKUSAI ELECTRICとの共同研究により、高熱伝導な新規接合材料「ALD-Al₂O₃」を用いた300mmウェーハの成膜、そのキャリア接合界面への応用に成功しました。本研究は、次世代の半導体3Dデバイス構造に不可欠な「Backside Power Delivery Network（BSPDN）」や「Reconstructed Die-to-Wafer（D2W）Hybrid Bonding」への適応を目指しており、従来材料での熱拡散性...