横浜国立大学は、本学の研究者がJST戦略的創造研究推進事業（CREST・さきがけ・ACT-X）に採択されたことをお知らせいたします。（CREST 1件、さきがけ 2件、ACT-X 1件）本学では、次世代研究の中核となる研究グループ形成に対する重点的な支援や、若手研究者の多様な研究活動を支援してまいりました。今後もこれらの取組のさらなる充実を図り、優秀な研究者の育成と先端的研究の推進を通じて、学術の発展と社会課題の解決に一層貢献してまいります。採択者および採択課題は以下のとおりです。●CREST...

横浜国立大学大学院 工学研究院の室町実大准教授とパナソニック株式会社の町田博宣博士、大阪大学大学院基礎工学研究科の菅原　武助教、公益財団法人高輝度光科学研究センター（JASRI）の安田伸広研究員（研究当時）および増永啓康主幹研究員（技術担当）、産業技術総合研究所の研究グループは、空調などに用いられる蓄熱材料「TBABハイドレート（TBAB・26H₂O）」の結晶構造を大型放射光施設SPring-8における高精度なX線回折実験により明らかにしました。この構造は1940年に初めて報告されて以来80年以上にわたり未解明であり、材料・プロセス開発や熱設計の妨げとなっていました。今回の成果により、水を基...

横浜国立大学 総合学術高等研究院 半導体・量子集積エレクトロニクス研究センター ヘテロ集積研究拠点長 井上 史大准教授とそのチームは、株式会社KOKUSAI ELECTRICとの共同研究により、高熱伝導な新規接合材料「ALD-Al₂O₃」を用いた300mmウェーハの成膜、そのキャリア接合界面への応用に成功しました。本研究は、次世代の半導体3Dデバイス構造に不可欠な「Backside Power Delivery Network（BSPDN）」や「Reconstructed Die-to-Wafer（D2W）Hybrid Bonding」への適応を目指しており、従来材料での熱拡散性...