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研究キーワード:東京大学における「特性ばらつき」 に関係する研究一覧:1件
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折りたたむ
発表日:2026年1月22日
この記事は2026年2月5日号以降に掲載されます。
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次世代半導体MoS₂の革新的ウエハースケール成膜技術を開発
―結晶成長の自己整合および自己停止メカニズムにより高移動度を達成―
この記事は2026年2月5日号以降に掲載されます。
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