PFASの「化学的指紋」を捉える

－PFOA・PFOSの安定同位体比分析に成功、環境動態解明へ新たな道－

発表・掲載日：2026/03/10

概要

芝浦工業大学（東京都江東区／学長 山田 純）システム理工学部の川島洋人 教授（環境科学研究室／国立研究開発法人産業技術総合研究所 外来研究員）と、国立研究開発法人産業技術総合研究所（以下、産総研）の谷保佐知 副研究部門長・研究グループ長らのグループは、環境や人体への影響が国際的に懸念されているペルおよびポリフルオロアルキル化合物PFAS（PFOA・PFOS）について、炭素安定同位体比（δ13C）を分析することに成功しました。
一部のPFASは「永遠の化学物質」とも呼ばれ、環境中でほとんど分解されない一方で、どこから流出したのか（発生源）を特定することが極めて困難という問題がありました。本研究では、PFOAやPFOSに含まれる炭素安定同位体比を「化学的指紋」として読み解くことで、発生源推定や製造プロセスの探索に活用できる新たな分析基盤を確立しました。
この成果は国際学術誌「Environmental Science & Technology Letters」に掲載されました。

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