「省エネルギー」に関するサイレントキーワード「表面・界面物性」が含まれる科研費採択研究4件

【研究名】ＳｉＣの熱酸化が誘起する界面近傍構造変化の解析とＭＯＳＦＥＴ特性向上指針の明確化
【研究代表者】喜多 浩之  東京大学   大学院工学系研究科(工学部)   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000343145/	
【研究名】強磁性ナノ接合を用いた巨大磁気キャパシタンス効果素子の創製
【研究代表者】海住 英生  北海道大学   電子科学研究所   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070396323/	 
【研究分担者】
西井 準治  北海道大学  電子科学研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060357697/	
長浜 太郎  北海道大学  工学研究院  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020357651/	
【研究連携者】     
小峰 啓史  茨城大学  工学部  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090361287/	

【研究名】高品質界面を有するSiC MOS反転層チャネル移動度の制約因子の解明
【研究代表者】喜多 浩之  東京大学   大学院工学系研究科(工学部)   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000343145/	
【研究名】高分子量化合物による固体表面分子集合体皮膜のナノ・マイクロトライボロジー
【研究代表者】益子 正文  東京工業大学   大学院・理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060111663/	
【研究連携者】     
鈴木 章仁  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030235931/	
【研究協力者】
青木 才子  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030463053/