「薄膜」に関するサイレントキーワード「拡散」が含まれる科研費採択研究4件

【研究名】Cr_2O_3(0001)薄膜表面の構造と水素の吸着・拡散
【研究代表者】WILDE Markus  東京大学   生産技術研究所   助手 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010301136/	
【研究名】分子一つ一つの移動を制御する分子バルブの創製
【研究代表者】大久保 達也  東京大学   大学院・工学系研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040203731/	
【研究名】高温材料の耐酸化性薄膜の作製とその酸化速度に関する研究
【研究代表者】永田 和宏 (1989)  東京工業大学   工学部   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070114882/	 
【研究分担者】
須佐 匡裕  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090187691/	
丸山 俊夫  東京工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020114895/	
永田 和宏  東京工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070114882/	

【研究名】MOS型IC材料の化学反応と拡散に関する研究
【研究代表者】後藤 和弘  東京工業大学   工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070016260/	 
【研究分担者】
須佐 匡裕  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090187691/	
永田 和宏  東京工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070114882/