「表面改質」に関するサイレントキーワード「半導体」が含まれる科研費採択研究2件

【研究名】シングルイオン注入法による半導体電気的特性ゆらぎ抑制に関する研究
【研究代表者】大泊 巌  早稲田大学   理工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030063720/	 
【研究分担者】
豊島 義明  株式会社東芝セミコンダクター社  マイクロエレクトロニクス研究所  主査
品田 賢宏  早稲田大学  理工学部・日本学術振興会  特別研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030329099/	

【研究名】量子化イオン照射による半導体ナノ構造の加工と特性制御
【研究代表者】大泊 巌  早稲田大学   理工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030063720/	 
【研究分担者】
原 謙一  早稲田大学  理工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040298162/	
豊島 義明  東芝セミコンダクター社  マイクロエレクトロニクス研究所  主査
松川 貴  早稲田大学  理工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070287986/