「半導体」に関するサイレントキーワード「酸化物」が含まれる科研費採択研究5件

【研究名】超高品質ヘテロエピタキシャル技術による革新的高効率スピン流制御
【研究代表者】大矢 忍  東京大学   大学院工学系研究科(工学部)   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020401143/	
【研究名】近赤外光応答光触媒電極開発とタンデム型反応系の構築
【研究代表者】嶺岸 耕  東京大学   先端科学技術研究センター   特任准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040512992/	 
【研究分担者】
杉山 正和  東京大学  先端科学技術研究センター  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090323534/	

【研究名】超高品質界面を用いた次世代スピントランジスタ
【研究代表者】大矢 忍  東京大学   大学院工学系研究科(工学部)   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020401143/	
【研究名】第一原理計算に基づいたドーパントレベルの定量化と材料機能設計
【研究代表者】大場 史康  京都大学   工学研究科   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090378795/	
【研究名】超高感度・分解能水素検出法の開発と半導体中不純物への応用
【研究代表者】WILDE Markus  東京大学   生産技術研究所   助手 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010301136/	 
【研究分担者】
福谷 克之  東京大学  生産技術研究所  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010228900/	
岡野 達雄  東京大学  生産技術研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060011219/	
村田 好正  東京大学  物性研究所  名誉教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010080467/