「薄膜」に関するサイレントキーワード「シリコン」が含まれる科研費採択研究2件

【研究名】強誘電性/強磁性直交積層セラミックス薄膜による新機能創製に関する研究
【研究代表者】脇谷 尚樹  東京工業大学   大学院・理工学研究科   助手 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040251623/	 
【研究分担者】
水谷 惟恭  東京工業大学  大学院・理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016558/	
篠崎 和夫  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000196388/	

【研究名】MOS型IC材料の化学反応と拡散に関する研究
【研究代表者】後藤 和弘  東京工業大学   工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070016260/	 
【研究分担者】
須佐 匡裕  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090187691/	
永田 和宏  東京工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070114882/