「結晶成長」に関するサイレントキーワード「コバルトシリサイド」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】スパッタ法によるシリサイド薄膜構造形成過程の理解と電子デバイスへの適用
【研究代表者】辻 佳子  東京大学   大学院・工学系研究科   助教 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010436529/	
【研究協力者】
中村 新一  青山学院大学  機器分析センター  技術主幹