「結晶成長」に関するサイレントキーワード「電界効果トランジスタ」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】窒化インジウム極薄膜へのドーピング技術開発
【研究代表者】小林 篤  東京大学   生産技術研究所   特任准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020470114/