「結晶化」に関するサイレントキーワード「薄膜成長」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】変調操作を用いた非定常状態の積極利用によるULSI積層配線作製プロセスの高度化
【研究代表者】霜垣 幸浩  東京大学   大学院・工学系研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060192613/	 
【研究分担者】
大場 隆之  株式会社半導体先端テクノロジーズ  基盤技術研究部  主任研究員
濱村 浩孝  日本学術振興会  特別研究員