「アモルファス」に関するサイレントキーワード「High-k膜」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】超薄高誘電率ゲート絶縁膜におけるシリコンとの界面制御の研究
【研究代表者】鳥海 明  東京大学   大学院・工学系研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050323530/	 
【研究分担者】
弓野 健太郎  東京大学  大学院・工学系研究科  講師  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040251467/	
喜多 浩之  東京大学  大学院・工学系研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000343145/