「非破壊分析」に関するサイレントキーワード「酸窒化膜」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発
【研究代表者】尾嶋 正治  東京大学   大学院・工学系研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030280928/	 
【研究分担者】
小野 寛太  東京大学  大学院・工学系研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070282572/	
藤岡 洋  東京大学  大学院・工学系研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050282570/