「エッチング」に関するサイレントキーワード「シリコン酸化膜」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】CVDプロセスとエッチングプロセスの反応工学的比較考察
【研究代表者】霜垣 幸浩  東京大学   工学部   講師 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060192613/