「グラフェン」に関するサイレントキーワード「ヘキサゴナル窒化ホウ素」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】単原子層半導体新物質「シリゲルマネン」の創生とその機能制御
【研究代表者】平山 博之  東京工業大学   理学院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060271582/	 
【研究分担者】
齋藤 晋  東京工業大学  大学院理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000262254/	
中辻 寛  東京工業大学  大学院総合理工学研究科  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080311629/