「誘電率」に関するサイレントキーワード「希土類金属酸化膜」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】高エネルギー光電子分光法開発と高誘電率膜/シリコン界面の化学結合状態分析への応用
【研究代表者】服部 健雄  武蔵工業大学   名誉教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010061516/	 
【研究分担者】
岩井 洋  東京工業大学  フロンテイア創造共同研究センター  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040313358/	
大見 俊一郎  東京工業大学  大学院・総合理工学研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030282859/	
小林 啓介  高輝度光科学研究センター  特別研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050372149/	
高田 恭孝  理化学研究所  先任研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090261122/	
野平 博司  武蔵工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030241110/