「半導体」に関するサイレントキーワード「界面評価」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】ビーム照射とECRプラズマとの併用法による良質ダイヤモンドの成膜
【研究代表者】平木 昭夫  大阪大学   工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050029013/	 
【研究分担者】
広瀬 洋一  日本工業大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090049726/	
川原田 洋  大阪大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090161380/	
田口 常正  大阪大学  工学部  講師  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090101279/